1、概述：
光纖陣列（FA）因體積小、集成度高等優(yōu)勢在光纖通信領域應用廣泛。它需要剝纖切割、點膠固化、研磨拋光等各種操作步驟制作。在剝纖和膠水固化等操作中，很容易因操作不當給光纖帶來微裂紋或微損傷，經(jīng)過較長時間或在惡劣的環(huán)境下，損傷裂化極易造成斷裂，產(chǎn)生嚴重損耗或失效。而使用OLI能在每個產(chǎn)品制作完成后，對每個通道逐一進行掃描檢測，規(guī)避生產(chǎn)過程中可能出現(xiàn)的損傷，大大減少后期因隱形損傷帶來的穩(wěn)定性問題。
下面的測試案例即是某客戶使用OLI對其特殊定制的FA進行失效檢測的結(jié)果分析。
2、測量：
客戶的FA結(jié)構(gòu)示意圖如下：
其中一段研磨成平面，并鍍膜（增反或增透），每一通道的光纖為普通單模光纖，輸出端夾角為特殊角（遠大于8度）。
實際的測試接線示意圖如下:
分別測量正常通道與異常通道，兩種狀態(tài)下得到的掃描曲線結(jié)果如下圖所示：
其中，紅色曲線為正常曲線結(jié)果，藍色曲線為異常結(jié)果。
3、分析
為確定每一個峰值對應實際結(jié)構(gòu)的具體位置和形成原因，我們把待測FA拿掉，得到結(jié)果曲線中只有一個峰，即轉(zhuǎn)接跳線的最后一個面，具體位置對應測量樣品結(jié)果中最左邊的一個峰。
觀察計算圖中每個峰的間距如下：
正常曲線結(jié)果（紅線）：可觀察得到第一峰和第二峰間距為15mm（從左往右），與待測樣品結(jié)構(gòu)對應上（第一峰對應鍍膜面，第二峰對應傾角面），但是除此之外，還有第三峰，這是怎么情況呢?
對于FA的輸入面，其是一個平面還鍍膜，它的反射較大，當光從有傾角的面返回時，部分光直接從鍍膜面透過被設備檢測到（即第二峰），還有部分光會在鍍膜面再次反射，再次反射光會按照原光路多走一遍，即會多走一個FA的長度，即15mm，此二次反射光即對應第三峰。下圖具體演示了每個反射峰對應的光路走法。
所以，結(jié)果曲線上顯示每個峰之間間距為待測FA的長度15mm，而2次反射的峰也間隔15mm，我們可以推斷，甚至還有3次反射（在15mm之后），只不過每反射一次，光信號被削弱一次，后面的峰因強度太低，沒有檢測到而已。
弄清楚以上光路行進過程以后，我們可以用更簡單直觀的圖示分析方法來展示，二次反射可以用平面鏡鏡像來畫圖分析，如下所示：
異常曲線結(jié)果（藍線）：可觀察到第一峰、第四峰、第七峰間距均為15mm（從左往右），根據(jù)以上正常結(jié)果曲線的分析，此三個峰分別對應正常結(jié)果（紅線）的第1、2、3峰。除此之外，異常通道結(jié)果還有第2、3、5、6峰（本樣品經(jīng)客戶拆解后用高倍顯微鏡觀察得到，僅距鍍膜面5mm處有一個破損點）。下面具體分析其成因。
第2峰距離第1峰5mm，說明在距離鍍膜端5mm處有一個失效點（斷裂或破損），由于端面鍍膜，存在高反射，所以原光二次反射后，10mm處又會產(chǎn)生一個峰，此峰低于首次反射的強度，大約-68db左右，而異常點首次反射強度大約在38db左右。
同時一次反射、二次反射光除了部分直接通過鍍膜面回來，還會有部分反射到傾角面，再次反射一遍，即在15mm以后再次出現(xiàn)兩個峰，此兩個峰即對應5、6峰。
由光路示意圖和測量峰值結(jié)果可以看到，鏡像峰和實際異常點產(chǎn)生的峰值回損成比例的降低，距離間隔一模一樣，符合光的相關理論；假設入射光足夠強（或者設備探測靈敏度無限低、測量長度足夠長），還會有更多等比例減小的反射相干峰出現(xiàn)。此種現(xiàn)象非常類似多光束干涉情況。
4、總結(jié)
對于較復雜的光路探測情況，OLI可以很好的檢測到光在每點的反射強度，甚至光在光路中有來回反射的情況均能有效的檢測出來，對于分析樣品內(nèi)具體光的行進過程，理解樣品的結(jié)構(gòu)，有非常大的幫助和指導意義。開發(fā)人員或工程師可通過測量結(jié)果，分析內(nèi)部結(jié)構(gòu)、失效點位置和個數(shù)，失效點的具體回損值，樣品結(jié)構(gòu)中各個特殊面、點或結(jié)構(gòu)之間的反射影響等。在新品開發(fā)、出貨檢測、故障品的失效分析等領域均可提供實測數(shù)據(jù)支撐，為后續(xù)的產(chǎn)品改進提升提供理論參考。
